Сейчас, как известно, mass-production -- 45 nm структуры полученные стандартным 193 nm лазером с иммерсией пучка. Малыми сериями делаются 30 nm, а вот с 19 nm пока затык из-за, как я понимаю, отсутствия нормальных 157 nm лазеров.
Но вот проскочили сообщения на семинаре Canadian Microscopic Society, что суперлинзы дают возможность прыгнуть сразу на 19 nm используя вакуумный ультрафиолет.
Что такое суперлинза (superlens)? По словам докладчика -- это линза, изготовленная из метаматериала (metamaterial) с отрицательным (!) показателем преломления (negative refraction).
На мой вопрос, как это возможно, докладчик сказал, чтобы я не kidding -- мол, изобретено это все было не где-нибудь, а в СССР и уж кому, как не мне об этом знать
Действительно, В. Г. Веселаго в своей статье, опубликованной в 1967 году в УФН предсказал возможность построения решетки с отрицательным показателем преломления. Я-таки об этом не знал.
Как выяснилось, и мои друзья-физики, похоже, не знали об этом, поскольку их первой реакцией было "этого не может быть, потому что этого не может быть никогда"
Насколько я знаю, имеющиеся на сегодняшний день системы коротковолновой фотолитографии используют фокусировку отражением, а о возможности (хотя бы и теоретической) создания линз для этого диапазона я, честно говоря, не подозреал, пока ознакомился с работой Веселаго.
В связи с этим вопрос уважаемому All -- а что вы думаете по поводу возможности практической реализации преломления вакуумного УФ и мягкого рентгена?
